图形晶圆缺陷检测设备(AMMI-2000)，用于半导体制造的前道检测，对图形晶圆的宏观缺陷，如划痕、颗粒脏污、腐蚀、图形结构缺陷等进行检测，对集成电路芯片的性能和可靠性保证有重要作用。AMMI-2000集成明场、暗场等多种检测模式，对图形晶圆各类缺陷提供可靠的缺陷信息，结合缺陷自动检测与分类算法，提取包括缺陷类型、尺寸、坐标、统计数据等在内的各项缺陷数据，生成晶圆缺陷检测报告供用户进行质量评估和判定。企业成立至今一直专注高端仪器设备领域，深耕光学缺陷检测技术与设备研发，创造了多项国际先进、国内唯一的成果和产品，成功开发多款高端光学缺陷检测仪器与设备，在科学研究与工业化生产领域都得到了重要应用。

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铌(钽)酸锂缺陷检测设备(NOVA-2000-LN)，是用于铌酸锂、钽酸锂等衬底晶圆的缺陷检测设备，可兼容黑化、半黑化、全透明等不同工艺类型，可检出颗粒物、划痕、凹坑、凸起、崩边、裂纹等缺陷，对晶圆的质量控制具有重要作用。

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玻璃晶圆缺陷检测设备(NOVA-2000-G)，是用于透明或半透明玻璃晶圆衬底的缺陷检测设备，可检出颗粒物、划痕、凹坑、凸起、崩边、裂纹等缺陷，对透明晶圆的质量控制具有重要作用。玻璃晶圆缺陷检测设备集成明场、暗场等多种检测模式，对各类缺陷提供可靠的缺陷信息，结合缺陷自动检测与分类算法，提取包括缺陷类型、尺寸、坐标、统计数据等在内的各项缺陷数据，生成晶圆缺陷检测报告供用户进行质量评估和判定。

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