双面研磨/抛光机
型号:HDL/HDP-22B
主要用于硅片、石英、陶瓷、玻璃、晶体、石英晶体等泛半导体材料双面高精密研磨与抛光。性能优势研磨过程全自动控制;工艺过程平稳运行;采用触摸屏,操作方便;有限元分析设计,受力均匀,结构稳定;自主操作系统,操作简单,易学易懂;自润滑系统,自动给油,长期免维护;丰富选配,适用多种材料加工模式。双面研磨/抛光机型号HDL/HDP-22B设备尺寸W3800xD3300xH3600mm设备重量约11T加工能力直径(或对角线尺寸)Ø25~480mm厚度0.3~50mm支持系统电源容量Max.35kW电源电压AC380V,3P压缩空气(供给压力)0.6MPa以上定盘主电机15kW(3电机),11kW+7.5kW