手机站
English
核心参数
- 仪器种类：实验室
- 测定原理：其它
- 测定范围：0.01~5mg/L
- 测定准确度：±1%
- 检出限 ：≤0.005mg/L
- 测定时间：30样品/小时
- 批处理量：不限
产品介绍
主要用于硅片、石英、陶瓷、玻璃、晶体、石英晶体等泛半导体材料双面高精密研磨与抛光。
性能优势
研磨过程全自动控制；
工艺过程平稳运行；
采用触摸屏，操作方便；
有限元分析设计，受力均匀，结构稳定；
自主操作系统，操作简单，易学易懂；
自润滑系统，自动给油，长期免维护；
丰富选配，适用多种材料加工模式。
双面研磨/抛光机 | ||
型号 | HDL/HDP-22B | |
设备尺寸 | W3800 x D3300 x H3600mm | |
设备重量 | 约11T | |
加工能力 | 直径（或对角线尺寸） | Ø25~480mm |
厚度 | 0.3 ~ 50mm | |
支持系统 | 电源容量 | Max. 35kW |
电源电压 | AC380V, 3P | |
压缩空气（供给压力） | 0.6 MPa以上 | |
定盘 | 主电机 | 15kW(3 电机)，11kW+7.5kW(4 电机) |
定盘尺寸 | Φ1460 x 484 x 50mm（研磨机） | |
Φ1488 x 456 x 55mm（抛光机） | ||
游星轮/ 载体 | 尺寸 | 齿数Z=184, 模数 M=3, 分度圆直径552mm |
数量 | 5 | |
相关产品
更多
上海汉虹精密机械有限公司
年
高级会员
高级会员
已认证
立即询价
提交后，商家将派代表为您专人服务
