半导体芯片，LCD，LED，平板显示中用于形成特定图案的光阻剂必须完全清除干净同时对其他接触材料没有损伤。以有机溶剂为主的剥离液在半导体中长期使用。对其他接触材料基本没有损伤，但对于较厚的光阻清除效果不是很理想。由于半导体技术和光阻材料的发展，目前商用的配方型含有机溶剂的剥离液的清除效果有待提高并且价格较高。安储科技高效低成本的配方型光阻剥离液能够有效的清除各种光刻胶，同时不蚀刻或者侵蚀其他暴露的材料，不仅仅用于先进半导体芯片中而且也用于LCD，LED，平板显示制程中。

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安储科技开发的铜蚀刻液不含氟离子，环保安全，可精确控制对铜的蚀刻速率以及刻蚀角度，没有倒角，并且无残渣残留，产品的Bathlife长，在较高铜离子浓度下仍能保持优异的蚀刻性能。

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安储科技开发的电子特气负压存储钢瓶内装多孔材料，具有高比表面积，对磷烷(PH3)和砷烷(AsH3)三氟化硼(BF3)，四氟化锗(GeF4)等电子特气有着很高的吸附能力，储存稳定安全，不会影响气体纯度，释放量高。可以用在半导体离子注入等设备工艺。

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