采用双白光干涉测量模组系统架构：0.5x干涉测量模组实现大视场区域平面度自动测量，同时兼容2.5x-50x干涉物镜的显微干涉测量模组实现高横向分辨率三维重构。 0.5x干涉模组能够自动对焦调平，可以实现批量自动化区域平面度干涉测量功能，能够覆盖从光滑抛光面到台阶表面的各种样品平面度测量。相比普通白光干涉显微镜，本设备具有单次测量视场大，测量12.8*12.8mm无需拼接的优势。

优势

✔️ 具备纳米级纵向分辨率，可满足超光滑抛光表面测量分析

✔️ 简单、精确、快速、可重复的测量方式

✔️ 单次测量视场大，芯片翘曲测量无需拼接

✔️ 高效率大区域三维轮廓测量能力

功能

✔️ 表面翘曲/3D微结构测量

✔️ 白光干涉（PSI/VSI）：纳米级测量精度

✔️ 大面积3D轮廓扫测

✔️ 适合高效率高精度宏微观三维测量

适用对象

精密抛光元件，微纳加工器件，金属机加工零件等

测量原理

• 采用双白光干涉测量模组系统架构，通过不同倍率干涉显微系统实现区域和微观三维测量。

• 白光干涉显微测量原理：采用白光光源，将非相干光干涉和大视场显微成像技术相结合，高精度重构微观三维轮廓，纵向测量分辨率可达到亚纳米量级

从产品研发到质量控制，Micro L_Pro 可以用于对从超光滑镜面到粗糙面的各种样品进行表面微观测量分析和粗糙度质量评价。

实测案例

Micro L-Pro 操作简便，测量功能完善，涵盖纳米级微观三维轮廓，粗糙度和二维尺寸分析，通用性强，精度高，助力我们的客户在精密制造和材料研发中处于领先地位。