核心参数
- 等级标准:UP-S 级(半导体级)
- 仪器种类:实验室
- 测定原理:其它
- 测定范围:0.01~5mg/L
- 测定准确度:±1%
- 检出限 :≤0.005mg/L
- 测定时间:30样品/小时
- 批处理量:不限
产品介绍
名称:半导体晶圆研磨抛光材料
说明:研磨液、乳化剂(油基/水基)研磨液和抛光液(氧化铈CeO2、绿色碳化 硅GC、金刚石粉)(金刚石浆、氧化铝AI2O3浆、氧化硅SiO2浆),主 要应用于光学玻璃、蓝宝石、硅片、碳化硅晶圆等材料表面的精密研 磨和抛光。
规格型号及参数
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