此设备用于在玻璃基板（基板尺寸300×300mm）表面沉积各种薄膜，可以制备出高质量的导电材料、绝缘材料和金属氧化物等纳米薄膜，这些薄膜在传感器、光电器件和阻隔层等方面具有重要应用价值。

交替式吹扫工艺：采用先进的交替式吹扫部件，吹扫部件内部交替分布着抽气口和吹气口，惰性气体吹扫、氧源、TMA（前驱体源）呈交替式分布，中间间隔抽气口可以将反应完全后多余的分子吸走，沉积高质量薄膜。

采用FFU空气净化器：通过过滤、循环、净化进化设备内空气，它可以有效地去除空气中的微小颗粒物和有害气体，使空气更加清新、健康。