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核心参数
- 仪器种类：实验室
- 测定原理：其它
- 测定范围：0.01~5mg/L
- 测定准确度：±1%
- 检出限 ：≤0.005mg/L
- 测定时间：30样品/小时
- 批处理量：不限
产品介绍
各种粒度的研磨粉，用于半导体材料，光学材料等的研磨抛光。 包括氧化铝粉，氧化铈粉，碳化硅粉，金刚石粉等等。
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苏州铼铂机电科技有限公司
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