核心参数
- 仪器种类:实验室
- 测定原理:其它
- 测定范围:0.01~5mg/L
- 测定准确度:±1%
- 检出限 :≤0.005mg/L
- 测定时间:30样品/小时
- 批处理量:不限
产品介绍
LP062型精密研磨抛光机
是一款双工作站台式设备,专为6英寸及以下晶圆的精密研磨和抛光设计,磨抛盘直径为400mm。
该设备支持2个精密夹具,能够同时进行高效的研磨和抛光作业。
采用双蠕动泵供液系统,并配备单滚筒搅拌功能,有效防止料液沉淀,确保供液稳定均匀。
摆臂可选配主驱电机功能,进一步提升研磨抛光效率。
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