核心参数
- 仪器种类:实验室
- 测定原理:其它
- 测定范围:0.01~5mg/L
- 测定准确度:±1%
- 检出限 :≤0.005mg/L
- 测定时间:30样品/小时
- 批处理量:不限
产品介绍
介绍:Ⅲ-Ⅴ化合物外延晶片是由元素周期表中Ⅲ族(如Ga、In、Al)和Ⅴ族(如As、P、N)元素组成的半导体材料,通过MOCVD、MBE等技术生长,晶体质量高;高电子迁移率;直接带隙;适合光电器件;可调带隙,适应不同波长需求等特点。
应用:HEMT-高电子迁移率晶体管结构材料;PHEMT-赝配高电子迁移率晶体管结构材料;HALL-霍尔元件砷化镓外延材料;HBT-异质结双极晶体管;PD-光电探测器;APD-雪崩光电二极管;VCSEL-垂直共振腔面发射型激光器结构材料;EE-lasers-边射型激光器结构材料;Photocathode-光电阴极。
产品规格书
Ⅲ-Ⅴ化合物外延 | ||
衬底类型 | GaAs、InP | |
衬底直径 | 2英寸-50.8mm | |
外延化合物 | GaAs、InP、AlGaAs、InGaP、 | |
掺杂类型 | Si-N型、Be CBr4-P型 | |
江阴晶沐光电新材料有限公司
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