- 刻蚀速率:最大刻蚀速度4000mm/s(单线)
- 仪器种类:实验室
- 测定原理:其它
- 测定范围:0.01~5mg/L
- 测定准确度:±1%
- 检出限 :≤0.005mg/L
- 测定时间:30样品/小时
- 批处理量:不限
根据不同场景的需求,配置纳秒脉宽的红外光纤(1064nm)、绿光(532nm)波段光源;皮秒脉宽的红外光纤(1064nm)、绿光(532nm)、紫外(355nm)波段光源;飞秒脉宽的红外光纤(1030nm)、绿光(515nm)波段光源进行微精细激光刻蚀、划线、构造去除、划片、表面剥离等应用。
适用于柔性PET/PI/PEN/玻璃等基底材料上的钙钛矿太阳能电池激光刻蚀划线应用。
玻璃、PET、PI、PNT等基底上薄膜材料激光刻蚀,应用于触摸屏、光伏太阳能电池、电至色玻璃等行业。
适用于导电银浆、ITO、FTO、氧化锌、氧化锆、氧化钛、氧化镍、碳粉、金、银、铜、铝等导电金属、石墨烯、碳纳米管、氧化物、钙钛矿电池Spiro-OMeTAD、Perovskite、SnO2、C60、PCBM等材料处理。特别是针对钙钛矿电池领域的阴电极、钙钛矿空穴传输层、阻挡层、钙钛矿层、阳电极激光刻蚀划线技术上有独到的技术优势。
采用自主研发的控制软件、直接导入CAD 数据CCD相机定位自动激光刻蚀,操作简单,方便快捷;采用通过软件实时调节振镜与直线电机、电动升降工作台的设计,加上真空吸附托盘装置,能有效地解决激光刻蚀加工运行中的平稳性。
设备集数控技术、激光技术、软件技术等光机电高技术于一体,具有高灵活性、高精度、高速度等先进制造技术的特征。可大范围内进行各种图案,各种尺寸的精密、高速刻蚀,并且能够保证很高的产能,是一个可靠、稳定和具有高性能价格比的产品。
主要构成:激光器、光路系统、运动控制系统、电控制系统、定位系统、抽尘系统、真吸附空系统、大理石龙门结构、钣金结构件等。
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