KLA R54 四探针电阻率测量仪 采用四点探针(4PP)和非接触式电涡流(EC)双模技术，测量范围覆盖10个数量级（低至1mΩ/sq），4PP重复性优于0.02%。设备配置边界效应动态校正与探针间距误差补偿功能，封闭式外壳适配光敏与环境敏感样品。

支持200mm/300mm晶圆或A4方形样品全自动测绘，RSMapper软件支持矩形、线性、极坐标及自定义测试点模式，可生成金属薄膜均匀性、离子注入掺杂与退火表征、薄膜厚度/电阻率等二维及三维分布图谱。适用于半导体晶圆、化合物半导体、太阳能电池（包括TOPCon）、LED、平板/VR显示、先进封装、印刷电路板及柔性可穿戴电子等行业。