核心参数
- 仪器种类:实验室
- 测定原理:其它
- 测定范围:0.01~5mg/L
- 测定准确度:±1%
- 检出限 :≤0.005mg/L
- 测定时间:30样品/小时
- 批处理量:不限
产品介绍
应用领域:主要用于硅Si、碳化硅SiC、锗片Ge、磷化铟InP、氮化镓GaN、蓝宝石等各种半导体材料抛光。
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产品描述
| 参数项目 | 技术指标 |
| 设备尺寸 | 2410x1470x2690mm |
| 净重 | 约6T |
| 加工范围 | 4"-8" |
| 抛光盘直径 | ø1280mm |
| 压力板外径 | ø485 |
| 压缩空气 | 0.6MPa |
| 额定功率 | 45kW |
南京晶升装备股份有限公司(简称“晶升股份”,股票代码688478)成立于2012年,是国家级专精特新“小巨人”企业、上交所科创板上市企业。
晶升股份专注于晶体生长设备和材料制备技术的研发、生产与销售,重点攻克大尺寸半导体级单晶硅炉、碳化硅(SiC)长晶炉、衬底加工设备及外延生长设备等关键装备的技术难题。通过持续创新,突破国外技术垄断,推动半导体高端装备国产化,保障了我国半导体产业链安全。
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