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抛光机SCMP8

抛光机SCMP8
  • 品牌:CGEE
  • 产地:南京
  • 关注度:16
  • 型号:SCMP8
  • 报价:面议
核心参数
  • 仪器种类:实验室
  • 测定原理:其它
  • 测定范围:0.01~5mg/L
  • 测定准确度:±1%
  • 检出限 :≤0.005mg/L
  • 测定时间:30样品/小时
  • 批处理量:不限
产品介绍

应用领域:主要用于硅Si、碳化硅SiC、锗片Ge、磷化铟InP、氮化镓GaN、蓝宝石等各种半导体材料抛光。


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产品描述

参数项目

技术指标

设备尺寸

2410x1470x2690mm

净重

约6T

加工范围

4"-8"

抛光盘直径

ø1280mm

压力板外径

ø485

压缩空气

0.6MPa

额定功率

45kW

南京晶升装备股份有限公司(简称“晶升股份”,股票代码688478)成立于2012年,是国家级专精特新“小巨人”企业、上交所科创板上市企业。

 

晶升股份专注于晶体生长设备和材料制备技术的研发、生产与销售,重点攻克大尺寸半导体级单晶硅炉、碳化硅(SiC)长晶炉、衬底加工设备及外延生长设备等关键装备的技术难题。通过持续创新,突破国外技术垄断,推动半导体高端装备国产化,保障了我国半导体产业链安全。



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