- 仪器种类:实验室
- 测定原理:其它
- 测定范围:0.01~5mg/L
- 测定准确度:±1%
- 检出限 :≤0.005mg/L
- 测定时间:30样品/小时
- 批处理量:不限
主要特点:
▏In-Feed 主轴 进给式 磨削加工,加工精度高
▏采用精密进口滚珠丝杆、直线导轨,高精度电机,
进行 Z 向精密控制;最小分辨率在 0.1um/s
▏ 成熟稳定的加工过程
▏ 采用高刚性气浮主轴,高可靠性与运动精度的承片组
件,加之高精度测厚仪;保证加工全程的稳定、可靠
▏ 便捷的操作与人机交互界面
▏ 采用直观便捷的整机操作界面,可选择不同尺寸不同
规格的加工配置文件
▏ 简单紧凑的单轴减薄机
▏单主轴,单工作台,结构紧凑的减薄机,最大可对应 12 英寸
的加工物
▏ 可广泛适用于硅晶圆意外的材料
▏可有效于硬质和脆性材料以及电子元件产品的研削加工
先进功能:
☑ 操作日志记录 ;
☑ 真空预警与真空管路去水;
☑ 实时高精度接触式晶圆测厚功能;
☑ 12 英寸晶圆等材料磨削;
☑ 抽雾过滤系统;
☑ 主轴水冷系统;
☑ 主轴磨削力实时监测功能;
☑ 功能模块化&软件定制。
应用:
主要应用于 12 英寸半导体晶圆的全自动减薄加工。
适用于 LED 背胶,Si 等特定半导体材料的加工。
最大工作物尺寸 | mm | Max.ø300" (ø4"~ø12") | |
主轴 | 主轴 | 高频电机内嵌空气静压主轴 | |
转速 | Rpm | 0-4,000 | |
额定输出功率 | kW | 7.5 | |
Z轴 | 行程 | mm | 80 |
进刀速度 | μm | 0.0001-0.08 | |
快退速度 | μm | 50 | |
最小位移量 | μm | 0.1 | |
分辨率 | μm | 0.1 | |
高度计 | 测量范围 | μm | 0-1250 |
分辨率 | μm | 0.1 | |
重复精度 | μm | ±0.5 | |
吸盘 | 工作台型式 | 多孔陶瓷式工作台 | |
转速 | Rpm | 0-500 | |
工作台清洗 | 油石手动清洗 | ||
磨轮 | 金刚石砂轮 | mm | Ø300 |
排风速度 | ≥5m³/min | ||
真空 发生器 | 真空压力 | kPa | -90(水温 15°C,流量 1L/min 时) |
电动机功率 | kW | 2.4 | |
用水量 | L/min | 3(水温>22°C),1(水温<22°C) | |
加工精度 | 单片晶圆内厚度差 | μm | ±3 |
不同间晶圆厚度差 | μm | ±3 | |
精加工面粗糙度 | Ry0.13(2000#) Ry0.15(1400#) | ||
设备重量 | Kg | ≈2,100 | |
设备尺寸/ W*D*H | mm | 840*1,920*1,750 | |
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