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抛光研磨垫

抛光研磨垫
  • 品牌:中机新材
  • 产地:江苏
  • 关注度:17
  • 型号:抛光研磨垫
  • 报价:面议
核心参数
  • 仪器种类:实验室
  • 测定原理:其它
  • 测定范围:0.01~5mg/L
  • 测定准确度:±1%
  • 检出限 :≤0.005mg/L
  • 测定时间:30样品/小时
  • 批处理量:不限
产品介绍

应用领域

应用于光学元件、晶体及金属和玻璃材料的研磨抛光,也可用来研磨抛光特殊材料,诸如硅、硒化锌、砷化镓的后道抛光。

白色阻尼布抛光垫:

具有极佳的相互连接的微孔结构,在进行粗抛光处理时能昙备优异的去除率、抛光稳定性和耐磨性。可配合研磨抛光液系列产品配套使用,用于对陶瓷、砷化镓、磷化铟、硬盘、光学玻璃、金属制品、蓝宝石衬底晶片、碳化硅晶片等材质或工件的粗抛或中抛,以获得没有缺陷的晶片表面。

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