核心参数
- 仪器种类:实验室
- 测定原理:其它
- 测定范围:0.01~5mg/L
- 测定准确度:±1%
- 检出限 :≤0.005mg/L
- 测定时间:30样品/小时
- 批处理量:不限
产品介绍
应用领域
应用于光学元件、晶体及金属和玻璃材料的研磨抛光,也可用来研磨抛光特殊材料,诸如硅、硒化锌、砷化镓的后道抛光。
白色阻尼布抛光垫:
具有极佳的相互连接的微孔结构,在进行粗抛光处理时能昙备优异的去除率、抛光稳定性和耐磨性。可配合研磨抛光液系列产品配套使用,用于对陶瓷、砷化镓、磷化铟、硬盘、光学玻璃、金属制品、蓝宝石衬底晶片、碳化硅晶片等材质或工件的粗抛或中抛,以获得没有缺陷的晶片表面。
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