氧化硅抛光液系列，采用高纯度胶态氧化硅微粒或高纯度硅粉所制成的一种高纯度低金属离子型抛光产品，可避免加工元件产生刮伤的现象，用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如:砷化镓、锗片、磷化钢、氨化镓、碳化硅、单晶硅、多晶硅、鈮酸锂、碳酸锂、硫系红外玻璃珠中抛或精抛。

主要特征

根据不同需要，可生产不同粒度的产品(10-150nm)抛光液，主要用于产品的精抛，产品稳定，抛光速率快，表面效果好，易清洗等，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工