手机站
English
核心参数
- 仪器种类：实验室
- 测定原理：其它
- 测定范围：0.01~5mg/L
- 测定准确度：±1%
- 检出限 ：≤0.005mg/L
- 测定时间：30样品/小时
- 批处理量：不限
产品介绍
H2000，用于化合物有图形工艺的晶圆缺陷检测，设备集成了线扫和面阵扫描双重光学系统，并且配置了激光暗场检测图形的光学滤波技术，可以对工艺过程的各种缺陷进行检测和分类，最小检测精度100nm（暗场滤波后）
线扫 + 面扫双模式
图形区域最小检测精度 100nm
覆盖工艺过程全类型缺陷，助力化合物有图形晶圆的工艺优化
相关产品
更多
昂坤视觉（北京）科技有限公司
年
高级会员
高级会员
已认证
立即询价
提交后，商家将派代表为您专人服务
