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全自动高真空晶圆键合设备

全自动高真空晶圆键合设备
  • 品牌:
  • 产地:山西
  • 关注度:12
  • 型号:-ZDK
  • 报价:面议
核心参数
  • 压力范围:键合压力:100KN
  • 温度范围:键合温度:550℃ ( 可选 )
  • 精度:对位精度:≤ 1μm
  • 仪器种类:实验室
  • 测定原理:其它
  • 测定范围:0.01~5mg/L
  • 测定准确度:±1%
  • 检出限 :≤0.005mg/L
  • 测定时间:30样品/小时
  • 批处理量:不限
产品介绍

全自动高真空晶圆键合设备用于射频、惯性、光电、信号传输等 微系统晶圆级封装,高端 MEMS、高性能逻辑器件等同质异质键合, 尤其适用于低温键合。 可选配模块有烘烤模块、激活模块、对位模块、键合模块以及冷 却模块,根据用户需求灵活选择。

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