核心参数
- 仪器种类:实验室
- 测定原理:其它
- 测定范围:0.01~5mg/L
- 测定准确度:±1%
- 检出限 :≤0.005mg/L
- 测定时间:30样品/小时
- 批处理量:不限
产品介绍
化学机械研磨机(PL-150/200/300)
PL- 系列化学机械抛光机是我公司自主研制的一款用于6,8,12英寸晶圆表面抛光的设备。性能优越,操作简单,反馈监测系统齐全。
机台特点:
6,8,12寸 3PlatenCMP,适用Oxide,Poly,Cu,Si,Sic等多种工艺
程序调度安全、稳定、高效;软件功能强大,界面美观、简洁易于上手
数据采集频率和点数可调节,便于精准追踪定位异常状况
Polishhead支持多区控制(3-7zone)
Cleanerrobot可以实现跨Module传送晶圆,方便ProcessTrouble Shooting
机台内置摄像头,实时监控且可随时回放,便于异常查询及故障处理
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