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核心参数
- 仪器种类：实验室
- 测定原理：其它
- 测定范围：0.01~5mg/L
- 测定准确度：±1%
- 检出限 ：≤0.005mg/L
- 测定时间：30样品/小时
- 批处理量：不限
产品介绍
单片刷片清洗设备（GMC-12BSC）
应用领域：
半导体行业，前道工艺制成（IC集成电路）、后道先进封装，衬底材料（硅片、碳化硅、氮化镓等化合物）。
晶圆尺寸：
300mm
设备配置：
先进运输系统和专有算法的开发Throughput：400WPH
配有氮气雾化二流体清洗
采用防静电管路，可调CO2 Generator电阻率
配有定制的软刷清洗扫描到边缘刷洗
晶圆翻转功能可进行背面与正面清洗
配置8套刷片清洗腔体，2套翻转机构
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吉姆西半导体科技（无锡）股份有限公司
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