核心参数
- 仪器种类:实验室
- 测定原理:其它
- 测定范围:0.01~5mg/L
- 测定准确度:±1%
- 检出限 :≤0.005mg/L
- 测定时间:30样品/小时
- 批处理量:不限
产品介绍
设备应用
该系列设备适用于半导体、蓝宝石、陶瓷、金属、光学玻璃等硬脆性材料的高精度双面研和抛光加工
设备特点
机身主体采用铸锻件,稳定性好
精密元件选用国际知名品牌,确保研磨抛光品质的高效稳定及设备的使用寿命
人性化操作界面,参数设置及工艺方式转换方便
多规格、多动力机型可供用户根据需求选择
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