核心参数
- 仪器种类:实验室
- 测定原理:其它
- 测定范围:0.01~5mg/L
- 测定准确度:±1%
- 检出限 :≤0.005mg/L
- 测定时间:30样品/小时
- 批处理量:不限
产品介绍
产品描述
该设备采用半自动化设计,集成高分辨率光学显微系统与智能图像识别算法,专用于半导体衬底材料位错密度的快速检测与自动计数。
操作便捷,兼具手动精准定位与自动批量扫描功能,有效替代人工目检,显著提升检测效率与一致性。
应用
1、化合物半导体衬底生产线的来料检验与出货质量管控
2、材料研发实验室的位错密度定量分析
3、半导体制造过程中的工艺质量监控环节
检测方式
1、采用高速线扫描明场照明技术,配合高精度自动对焦系统,对晶圆表面进行连续扫描成像;
2、结合自主研发的缺陷识别算法,自动对位错坑进行标记、计数与分类统计。
适用产品
砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)、锗(Ge)单晶衬底,兼容2~8英寸晶圆规格
相机规格
4K5um线扫相机
物镜倍率
10X
像素解析度
0.5μm
对焦方式
自动对焦
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