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晶圆位错检测设备

晶圆位错检测设备
  • 品牌:
  • 产地:珠海
  • 关注度:8
  • 型号:WIL100
  • 报价:面议
核心参数
  • 仪器种类:实验室
  • 测定原理:其它
  • 测定范围:0.01~5mg/L
  • 测定准确度:±1%
  • 检出限 :≤0.005mg/L
  • 测定时间:30样品/小时
  • 批处理量:不限
产品介绍

产品描述    

该设备采用半自动化设计,集成高分辨率光学显微系统与智能图像识别算法,专用于半导体衬底材料位错密度的快速检测与自动计数。

操作便捷,兼具手动精准定位与自动批量扫描功能,有效替代人工目检,显著提升检测效率与一致性。 

应用    

1、化合物半导体衬底生产线的来料检验与出货质量管控

2、材料研发实验室的位错密度定量分析

3、半导体制造过程中的工艺质量监控环节 

检测方式    

1、采用高速线扫描明场照明技术,配合高精度自动对焦系统,对晶圆表面进行连续扫描成像;

2、结合自主研发的缺陷识别算法,自动对位错坑进行标记、计数与分类统计。

适用产品    

砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)、锗(Ge)单晶衬底,兼容2~8英寸晶圆规格  

相机规格    

4K5um线扫相机 

物镜倍率    

10X 

像素解析度    

0.5μm

对焦方式    

自动对焦

   


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