全自动科研级CMP抛光机对标美国AMAT同类设备，专为高精度晶圆抛光工艺开发。兼容最大8英寸晶圆，并支持向下兼容4英寸、6英寸晶圆。采用干进干出设计，可根据需求定制2区、3区或4区抛光头配置，灵活适应不同工艺要求。抛光盘配备水冷功能，实现精准温控，提升工艺稳定性。设备支持设定抛光时间，自动停机，确保操作高效安全，广泛适用于科研及小批量生产应用。

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LP062型精密研磨抛光机是一款双工作站台式设备，专为6英寸及以下晶圆的精密研磨和抛光设计，磨抛盘直径为400mm。该设备支持2个精密夹具，能够同时进行高效的研磨和抛光作业。采用双蠕动泵供液系统，并配备单滚筒搅拌功能，有效防止料液沉淀，确保供液稳定均匀。摆臂可选配主驱电机功能，进一步提升研磨抛光效率。

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AFTEX-8000系列ECR等离子体成膜设备，采用高活性、高密度的ECR（电子回旋共振）等离子体源，通过在等离子体引出部配置固体目标，实现基于固体源的ECR等离子体成膜工艺。与传统CVD方法不同，设备无需使用危险气体，因此无需复杂的废气处理系统，是一种兼顾高性能与环保要求的先进成膜技术。AFTEX-8000系列在一个成膜腔体内搭载了两组倾斜配置的ECR等离子体源，可在最大8英寸直径的基板上高效形成具有优异均匀性和高质量的多层光学薄膜。本机型为CtoC（CassettetoCassette）枚叶式全自动多层膜沉积系统，广泛适用于对光学性能、膜质要求极高的应用领域。

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