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Strip去胶设备

Strip去胶设备
  • 品牌:
  • 产地:上海
  • 关注度:13
  • 型号:weishi3
  • 报价:面议
核心参数
  • 仪器种类:实验室
  • 测定原理:其它
  • 测定范围:0.01~5mg/L
  • 测定准确度:±1%
  • 检出限 :≤0.005mg/L
  • 测定时间:30样品/小时
  • 批处理量:不限
产品介绍

技术参数:

晶圆尺寸:4-8英寸

适用材料:光刻胶, PI

适用衬底:硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓、铌酸锂

适用工艺:高温去胶, 低温去胶,表面处理、去碳膜

适用领域:硅基半导体、科研、化合物半导体、功率半导体



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