核心参数
- 仪器种类:实验室
- 测定原理:其它
- 测定范围:0.01~5mg/L
- 测定准确度:±1%
- 检出限 :≤0.005mg/L
- 测定时间:30样品/小时
- 批处理量:不限
产品介绍
技术参数:
处理原理:干法吸附式
气体最大处理流量:200SLM
控制系统:PLC
适用工艺:MOCVD、PECVD、刻蚀机等配套设备
适用领域:高校实验室、材料分析实验室、芯片半导体
设备特点:
吸附剂更换简单、成本低廉
处理效率高,吸附能力强
售后服务简易,设备故障率低
安装空间占用面积小,节省空间
设计有应急备用桶,主桶异常时可自动切换至应急吸附桶处理
具备入口压力监测、出口压力监测、温度检测等功能,均有安全连锁程序
上海微世半导体有限公司
年
高级会员
高级会员
已认证
立即询价
提交后,商家将派代表为您专人服务
手机站
English
