AuroraSerialⅡALD系统是市场领先的ALD设备，无论是对于工业化创新企业还是研究机构都能成为首选工具。灵活的设计和高兼容性是他的特色，在满足高质量薄膜生长的要求下以适应未来市场的需求和应用。该系统采用了灵活的源供应解决方案，以满足客户不同工艺的需求。进气系统独特的设计保证了气体流场的均匀性，以达到更佳的生长效果，此外衬底独立控温也是此系统的一大特点，此外系统还提供了Loadlock和Plasma作为选项，以满足客户多样化的需求。产品特点—衬底规格：50-200mm—工艺温度：20-600℃—典型生长材料：Al2O3,SiO2,Ta2O5,ZnO,HfO2,TiO2—前驱体：Al源、

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AuroraSerialⅠALD系统是高产量ALD的代表，通过独家专利的特殊进气设计满足高产量、高质量的双重标准，整体模块化设计也简化了维护形式，缩短了维护时间，让客户拥有更有效的生产时间。此款系统是采用手动装载Wafer形式，为此我们设计了快速装载工具，大大节省了装载时间，此外，充分考虑了各种尺寸和类型Wafer载具的便捷更换，在人机交互方面，我们提供了简洁、友好，易于操作的软件系统，这也使得此系统能让操作者快速熟悉和掌握。

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NebulaSerialⅠ系统是市场上领先的MISTCVD设备，已成为创新驱动公司和研究机构的首选工具。敏捷的设计使最高质量的薄膜沉积以及最终的系统灵活性，以适应未来的需求和应用。系统采用独特的液源供应单元，除了配置两个雾化源外额外配置一个Mo源，为满足客户不同工艺制程的需求，另外，雾源配备了智能补液系统，确保雾化效果和稳定性；此外，我们还为客户提供反应室温区数量的选择，客户可选择多达三个温度区配置，最突出的是该系统支持独特的晶片旋转功能，使均匀性达到新的高度。产品特点—衬底规格：50-100mm—工艺温度：20-1000℃—典型生长材料：Ga2O3，Al2O3，In2O3—前驱体：Mist源

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