Nebula Serial Ⅰ系统是市场上领先的MISTCVD设备，已成为创新驱动公司和研究机构的首选工具。敏捷的设计使最高质量的薄膜沉积以及最终的系统灵活性，以适应未来的需求和应用。 系统采用独特的液源供应单元，除了配置两个雾化源外额外配置一个Mo源，为满足客户不同工艺制程的需求，另外，雾源配备了智能补液系统，确保雾化效果和稳定性；此外，我们还为客户提供反应室温区数量的选择，客户可选择多达三个温度区配置，最突出的是该系统支持独特的晶片旋转功能，使均匀性达到新的高度。

产品特点

—   衬底规格：50-100mm

—   工艺温度：20-1000℃

—   典型生长材料：Ga2O3， Al2O3 ，In2O3

—   前驱体：Mist源、MO源