Stellar Serial TD系统是市场为数不多的二维材料CVD设备，通过独家**的特殊进气设计满足高质量薄膜生长标准，整体模块化设计也简化了维护形式，缩短了维护时间，让客户拥有更有效的生产时间。此款系统配置了两套固态源供气模块，能实现最高烘烤650℃温度并能精准控制温度，除此之外为了达到更好薄膜均匀性我们提供了载盘旋转功能，另外，充分考虑市场需求的多样性，我们提供部分功能的定制服务以满足客户的各种需求，在人机交互方面，我们提供了简洁、友好，易于操作的软件系统，这也使得此系统能让操作者快速熟悉和掌握。

产品特点

—   衬底规格：50-200mm

—   工艺温度：20-1000℃

—   典型生长材料：MoS2、 BN

—   前驱体：硫源、MO源

—   气路漏率：≤ 1.0*10-9 mbar*l/s