Aurora Serial Ⅱ ALD系统是市场领先的ALD设备，无论是对于工业化创新企业还是研究机构都能成为首选工具。灵活的设计和高兼容性是他的特色，在满足高质量薄膜生长的要求下以适应未来市场的需求和应用。 该系统采用了灵活的源供应解决方案，以满足客户不同工艺的需求。进气系统独特的设计保证了气体流场的均匀性，以达到更佳的生长效果，此外衬底独立控温也是此系统的一大特点，此外系统还提供了Loadlock和Plasma作为选项，以满足客户多样化的需求。

产品特点

—   衬底规格：50-200mm

—   工艺温度：20-600℃

—   典型生长材料：Al2O3, SiO2, Ta2O5, ZnO, HfO2, TiO2  

—   前驱体：Al源、硅源、锌源等

—   气路漏率：≤ 1.0*10-9 mbar*l/s

—   可选项：Loadlock, Plasma